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半导体制造用高纯湿化学品、光刻胶、蚀刻剂、抛光液与电子级气体。

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Ru 分子结构式

钌

CAS 7440-18-8J-40112-8Ru

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Os 分子结构式

锇

CAS 7440-04-2J-19984-1Os

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Sr 分子结构式

金属锶

CAS 7440-24-6J-27307-9Sr

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Si 分子结构式

硅

CAS 7440-21-3J-1513652-3Si

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Rh 分子结构式

铑

CAS 7440-16-6J-32493-1Rh

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Pb 分子结构式

铅片

CAS 7439-92-1J-32696-6Pb

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H3P 分子结构式

鏻

CAS 16749-13-6J-1336239-7H3P

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O2 分子结构式

氧

CAS 7782-44-7J-23949-7O2

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N2 分子结构式

氮气

CAS 7727-37-9J-24258-1N2

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Lu 分子结构式

镥粉

CAS 7439-94-3J-24283-9Lu

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Ce 分子结构式

铈

CAS 7440-45-1J-1340036-7Ce

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Kr 分子结构式

氪气

CAS 7439-90-9J-1334554-5Kr

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