商品名：一氧化硅
别 名：Silicon monoxide
oxo-silylen
英文名：Silicon oxide
产 地：湖南
Cas号：10097-28-6
MDL：MFCD00151536
Beilstein：
EINECS：233-232-8
分子结构：
分子式：SiO
分子量：44.0800
备注：
性状：
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块状或粉末体，块状为黑色甲壳状不规则块体。粉体为红褐色粉末。温度高于 700 ℃时 易氧化， 700 ℃ 以下温度性质稳定，不和除 HF 外的任何酸反应，不溶于碱和水。溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸。
熔点：>1702℃
沸点：1880℃
密度：2.13
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一氧化硅性脆结构致密。温度高于 1180 ℃时 为非稳定状态极易歧化为 Si 和 SiO 。在空气中加热时生成白色的二氧化硅粉末。由纯度99.5％的二氧化硅粉末与煤沥青粉末(或硅粉)以C/SiO2=1.3或Si/SiO2=1.2配比混合，放入电加热的真空炉，注入非氧化性气体(如氩、氢等气体)，高温反应，制得超细(0.1/μm以下)无定形氧化硅。极富有活性。固态一氧化硅可作绝缘材料。
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质量标准：
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外观Appearance 暗灰色或棕色粉末
纯度Purity ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
ICP Assay Confirms silicon component
痕量金属杂质trace metallic impurities ≤200ppm by ICP Atomic emission
粒径particle size 200mesh
镀膜级，99.8%，particle size 3.5-5 mm
纯度Purity ≥99.8 %
粒度particle size 3.5-5 mm
密度density 2.13 g/mL （25 °C）
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存储：严禁潮湿和高温地点存放。
用途：作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。
联合编号：
RISK：
Safety：
Hazard：