商品名：一氧化硅

别 名：Silicon monoxide
oxo-silylen

英文名：Silicon oxide

产 地：湖南

Cas号：10097-28-6

MDL：MFCD00151536

Beilstein：

EINECS：233-232-8

分子结构：

分子式：SiO

分子量：44.0800

备注：

性状：

块状或粉末体，块状为黑色甲壳状不规则块体。粉体为红褐色粉末。温度高于 700 ℃时 易氧化， 700 ℃ 以下温度性质稳定，不和除 HF 外的任何酸反应，不溶于碱和水。溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸。 熔点：>1702℃ 沸点：1880℃ 密度：2.13

一氧化硅性脆结构致密。温度高于 1180 ℃时 为非稳定状态极易歧化为 Si 和 SiO 。在空气中加热时生成白色的二氧化硅粉末。由纯度99.5％的二氧化硅粉末与煤沥青粉末(或硅粉)以C/SiO2=1.3或Si/SiO2=1.2配比混合，放入电加热的真空炉，注入非氧化性气体(如氩、氢等气体)，高温反应，制得超细(0.1/μm以下)无定形氧化硅。极富有活性。固态一氧化硅可作绝缘材料。

质量标准：外观Appearance                          暗灰色或棕色粉末
纯度Purity                              ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP
ICP Assay                               Confirms silicon component
痕量金属杂质trace metallic impurities   ≤200ppm by ICP Atomic emission
粒径particle size                       200mesh


镀膜级，99.8%，particle size 3.5-5 mm

纯度Purity                               ≥99.8 %
粒度particle size                        3.5-5 mm
密度density                              2.13 g/mL （25 °C）

存储：严禁潮湿和高温地点存放。

用途：作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。

联合编号：

RISK：

Safety：

Hazard：